名詞解釋

正光刻膠

答案：曝光區(qū)域變軟并最后被溶解。負膠則相反。

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光刻技術

答案：圖形化工藝中將設計好的圖形從光刻板或背縮光刻板轉印到晶圓表面的的光刻膠上使用的技術。

【簡答題】什么是駐波效應？如何減小駐波效應

答案：駐波效應：當曝光的光纖從光刻膠與襯底的界面反射時，會與入射的曝光光線產生干涉，會使曝光過度和不足的區(qū)域形成條紋狀結構。<...

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