單項選擇題

浸入式光刻技術可以使193nm光刻工藝的最小線寬減小到45nm以下。它通過采用折射率高的液體代替透鏡組件間的空氣，達到（）的目的。

A.增大光源波長；
B.減小光源波長；
C.減小光學系統(tǒng)數(shù)值孔徑；
D.增大光學系統(tǒng)數(shù)值孔徑。

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