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【簡答題】光刻和刻蝕的目的是什么?
答案:
光刻的目的是將電路圖形轉移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上,而刻蝕的目的是在硅片上無光刻膠保護的地方留下永久的圖形。即將圖形轉...
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【簡答題】離子注入后為什么要進行退火?
答案:
推進,激活雜質,修復損傷。
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【簡答題】離子注入前一般需要先生長氧化層,其目的是什么?
答案:
氧化層保護表面免污染,免注入損傷,控制注入溫度。
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