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【簡答題】光刻技術中的常見問題有那些?
答案:
半導體器件和集成電路的制造對光刻質量有如下要求:
一是刻蝕的圖形完整,尺寸準確,邊緣整齊陡直;
二是...
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光刻(photolithography)就是將掩模版(光刻版)上的幾何圖形轉移到覆蓋在半導體襯底表面的對光輻照敏感薄膜材...
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