問答題

【簡答題】VLSI對金屬化的要求是什么？

答案：

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問答題

【簡答題】PECVD的機理？PECVD有何優(yōu)勢？
答案：

機理：等離子體由中性原子團、游離基、分子、離子、少量高能電子組成。
優(yōu)勢：可以較低溫度下淀積薄膜，常是低溫與低壓結合
問答題

【簡答題】淀積技術包括哪兩種？
答案： ①根據(jù)壓強分：常壓（AP）和低壓（LP） 
②根據(jù)反應室壁冷熱分：熱壁和冷壁 
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