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多項選擇題

回態(tài)源擴散的雜質(zhì)源有（）

A.硼酸三甲酯
B.氮化硼
C.硼
D.磷微晶玻璃片

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多項選擇題

在離子注入完成后，檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴重的情況，該情況引起的主要問題有（）

A.在局部阻擋摻雜
B.對器件結(jié)構造成連接或短路
C.對微小器件結(jié)構造成溝型損傷
D.整片硅片報廢

多項選擇題

分結(jié)深是重要的結(jié)構參數(shù)，在檢驗時發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時，判斷其造成原因有（）

A.快速熱退火及升溫速度和保持時間是否準確
B.檢查是否有溝道效應
C.檢查注入能量系統(tǒng)
D.檢查注入速度和時間是否準確