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      單項(xiàng)選擇題

      患者,女,39歲,因“右下后牙嚴(yán)重牙周炎拔除1年,要求種植修復(fù)”就診。檢查:C6、C7缺失,牙槽嵴頂高度萎縮,角化牙齦寬度約1mm,余留牙健康。CBCT:C6、C7牙槽嵴垂直骨吸收,管嵴距約4~5mm,水平向吸收造成牙槽嵴頂寬度4~5mm,下頜前牙無(wú)缺失且牙髓活力正?!,F(xiàn)計(jì)劃行右下后牙區(qū)Onlay自體骨移植手術(shù),同期行種植體(長(zhǎng)度8mm)植入術(shù),以下供區(qū)最適合的是()

      A.右側(cè)下頜升支
      B.左側(cè)下頜升支
      C.顱骨
      D.髂前上棘
      E.下頜頦部區(qū)域

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        患者,女,37歲,11樁核冠修復(fù)后10年失敗無(wú)法保留,軟組織充血水腫。X線片顯示11根管治療后,近牙槽嵴頂唇側(cè)骨板缺失。根尖區(qū)未見(jiàn)明顯低密度影。較佳的種植治療時(shí)機(jī)為()

        A.即刻種植
        B.拔牙后一個(gè)月種植
        C.拔牙后4~8周種植
        D.拔牙4個(gè)月后種植
        E.拔牙6個(gè)月后種植

      • 單項(xiàng)選擇題

        患者,男,51歲。右下第一、第二磨牙缺失2年余。今來(lái)診,要求種植修復(fù)?;颊邿o(wú)全身系統(tǒng)疾病及藥物過(guò)敏史。無(wú)吸煙習(xí)慣。治療前為患者制取研究模型。灌注石膏模型時(shí),下列做法不正確的是()

        A.調(diào)好的石膏漿從印模的高處向低處流注
        B.嚴(yán)格控制水粉比,按照先水后粉的順序精確稱量取材后一次完成調(diào)拌,不應(yīng)在調(diào)拌過(guò)程中再加水或粉
        C.灌模時(shí),應(yīng)將模型材料大量灌入印模,以防裹入空氣而形成氣泡
        D.模型遠(yuǎn)中部分石膏應(yīng)具有一定厚度,以避免形成薄弱邊緣
        E.灌模后應(yīng)及時(shí)去除下頜模型舌側(cè)多余的石膏材料

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