答案：凈化間是硅片制造設(shè)備與外部環(huán)境隔離，免受諸如顆粒、金屬、有機(jī)分子和靜電釋放（ESD）的玷污。一般來(lái)講，那意味著這些玷污在...

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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。
答案：氧氣（O₂）、氬氣（Ar）、氮?dú)猓∟₂）、氫氣（H₂）和氦氣（He）。
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】描述在硅片廠中使用的去離子水的概念。
答案：去離子水：在半導(dǎo)體制造過(guò)程中廣泛使用的溶劑，在它里面沒(méi)有任何導(dǎo)電的離子。DI Water的PH值為7，既不是酸也不是堿，...