現(xiàn)代材料分析方法章節(jié)練習(xí)(2020.03.13)

來(lái)源：考試資料網(wǎng)

1 M層電子遷遷移到K層后，多余的能量釋放的特征X射線是（）

2 用X射線對(duì)固溶體進(jìn)行分析時(shí)，得到的結(jié)果是（）

3 與X射線及晶體衍射有關(guān)的諾貝爾獎(jiǎng)是（）

4 電子與物質(zhì)發(fā)生相互作用時(shí)（）

5 透射電子顯微鏡中可以消除的像差是（）

6.問(wèn)答題試計(jì)算鉬的K激發(fā)電壓，已知鉬的λ_K＝0.0619nm。欲用Mo靶X光管激發(fā)Cu的熒光X射線輻射，所需施加的最低管電壓是多少？激發(fā)出的熒光輻射波長(zhǎng)是多少？

7 七大晶系包括（）

8.問(wèn)答題衍射譜標(biāo)定方法與注意事項(xiàng)有那些？

9.問(wèn)答題 連續(xù)譜是怎樣產(chǎn)生的？其短波限與某物質(zhì)的吸收限有何不同（V和V_K以kv為單位）？

參考答案：當(dāng)ⅹ射線管兩極間加高壓時(shí)，大量電子在高壓電場(chǎng)的作用下，以極高的速度向陽(yáng)極轟擊，由于陽(yáng)極的阻礙作用，電子將產(chǎn)生極大的負(fù)加速...

10 像差包括（）