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決定干涉條紋寬度的主要因素是（）發(fā)生變化。
A、平面鏡底座
B、平面鏡底座后傾角
C、平面鏡干凈程度
D、平面鏡厚度
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單項(xiàng)選擇題
光學(xué)瓦檢器的鑒定周期為（）年。
A、1
B、2
C、3
D、1.5
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單項(xiàng)選擇題
氣室膠是用（）、松香、黃蠟加熱制成的。
A、凡士林
B、奶油
C、塑料
D、聚乙烯
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